作者
张 科
文章摘要
半导体制造工艺朝着微缩与精密化方向发展，冷却水系统运行的稳定性对于产品质量以及生产效率所产生的影响变得日益较大。本文关注半导体厂房当中的工艺冷却水系统，从排水工程方面入手，围绕温度和流量这两个维度，对现存问题展开系统分析，提出包括结构优化、控制逻辑改进以及监测反馈融合等一系列策略。由实证案例对比验证可知，本文所提出的方法可切实提高冷却水系统的稳定性以及能效，有一定的推广价值。
文章关键词
半导体厂房；工艺冷却水；排水工程；温度控制；流量调节；系统优化
参考文献
[1] 李佳霖.电子厂房工艺循环冷却水系统分析与优化[J].造纸装备及材料,2022,51(01):25-27+40.
[2] 何银凤,李晓红,胥五一等.多晶硅厂循环冷却水系统水质稳定性分析与优化运行[J].净水技术,2015,34(03):45-49.
[3] 胡文娟,白宏帅.电子工业厂房冷却水系统节能措施探讨[J].建筑热能通风空调,2019,38(09):63-65+33.
[4] 段超,王会林,裴蕾等.多晶硅生产冷却循环水系统及水质控制技术[J].中国有色冶金,2021,50(01):45-48.
[5] 高志强,姚军,黄翔等.上海某计量检测实验楼工艺冷却水系统设计[J].制冷与空调,2020,20(07):60-64.
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